二手ICP-MS電感耦合等離子體質譜基本知識和原理

二手ICP-MS 電感耦合等離子體質譜是20世紀80年代發展起來的無機元素分析技術。它以獨特的接口技術將ICP 的高溫等離子體電離特性與質譜儀的靈敏、快速掃描的優點相結合，形成一種新型的元素分析技術。
與電感耦合等離子體光譜(ICP-OES)、原子吸收(AAS)和原子熒光(AFS) 等無機元素分析技術相比，ICP-MS技術具有檢出限低、動態線性范圍寬、干擾少、精密度高、速度快以及可提供精確的同位素信息等分析特性，性能有較大的提升。
ICP-MS還可以與其他技術如高效液相色譜(HPLC)、氣相色譜(GC)和激光燒蝕進樣系統(LA)聯用，進行元素的形態、分布特性等分析。
目前ICP-MS廣泛應用于環境、冶金、生物、醫學、核材料分析等領域，作為一種具有廣闊前景的痕量（超痕量）無機多元素分析技術，已成為最強有力的元素分析技術

二手ICP-MS電感耦合等離子體質譜 儀器結構
  二手ICP-MS 電感耦合等離子體質譜的主要組成包括進樣系統、離子源、接口系統、離子聚焦透鏡系統、碰撞/反應池、真空系統以及質量分析器七大部分。其中進樣系統和離子源與ICP-OES的進樣系統以及光源是基本一致的。   ???????

進樣系統
ICP-MS的進樣系統包括導管，蠕動泵，霧化器以及霧室

進樣系統與光源

（1）霧化器
目前ICP所用的氣動霧化器主要有兩種基本構造：一種是同心霧化器，在這種霧化器上，通入試樣溶液的毛細管被一股高速的與毛細管軸相平行的Ar氣流所包圍；另一種是交叉型霧化器，在該霧化器上，輸送液體的毛細管與輸送氣流的毛細管成直角。

（2）霧化室
霧化器產生的氣溶膠通過霧化室向等離子體炬傳遞。
霧化器產生的霧粒大小分布是高度分散的，小的氣溶膠霧粒（小于10um）的傳輸效率最高，而較大的霧粒在傳輸過程中常常會沉降在霧化室的壁上。
大的霧粒直徑可達100um以上。霧化室的作用是濾去大的霧粒，保持穩定的細小霧粒的氣溶膠流，從而降低進樣系統的噪聲，改善信號的穩定性。

筒型霧化室是利用霧化室內壁上的湍流沉降作用，或利用重力作用除去較大的霧滴。

旋流霧化室是圓錐形的，氣溶膠以切線方向噴入霧化室并向下盤旋行進，這種運動產生了作用在霧滴上的離心力，從而將霧滴拋向器壁。

在霧化室底部，氣溶膠改變方向并與原來路線同軸地成更緊密的螺旋形向容器頂部移動。

拋向器壁的大霧滴由底部的廢液管排出，而小霧滴通入伸入容器頂部一小段管進入炬管。

離子源
離子源主要由兩部分組成，即矩管和RF線圈

接口系統
接口系統是ICP離子源與質譜儀的連接裝置，在它的兩端是截然不同的兩個環境，一邊是常壓、高溫的等離子體焰炬，另一邊則是真空、常溫、潔凈的環境，它的功能是將大氣壓下高溫氬等離子體產生的離子連續地引出，并均一地轉移到真空狀態的質譜儀進行質量分析及測量。
接口系統主要由兩個（或三個）同軸放置的圓錐體所組成，直接與等離子體焰炬接觸的成為采樣錐（或提取錐），在采樣錐后幾毫米處，同軸放置的第二個錐稱為截取錐

離子聚焦透鏡系統
離子透鏡系統位于截取錐之后，其功能是把離子流聚焦成散角盡量小的很細的離子束，擋住光子和中性離子，然后傳輸到質量分析器。
常見的離子聚焦透鏡系統通常采用離軸離子路徑的設計。

碰撞/反應池
碰撞/反應池技術的原理和運用源于有機質譜分析中混合物的結構分析以及離子-分子反應的基礎研究，它是靠氣相離子-分子反應消除多原子干擾，達到化學分辨的目的。其主要具有3種類型，即碰撞碎裂型（CID）、動能歧視型（KED）以及化學反應型（CR）。

真空系統
在各類質譜儀中，ICP-MS儀器與眾不同的是它的離子源在質譜儀的真空系統之外，并且是在大氣壓條件下形成的。而在質譜儀中要求離子在運動中不產生不應有的碰撞，為此，質量分析器要置于比5mPa更低壓力的真空系統中，以使系統中背景粒子減到最小。
顯然，從ICP離子源到質量分析器之間，壓力減少8個數量級是必需的。為滿足這一要求，ICP-MS儀器的真空系統采用了壓差抽氣技術，由差分孔聯通3級分立的真空室（接口室、離子透鏡室和質量分析器）逐漸降低壓力到質量分析器所要求的壓力值。

質量分析器
ICP-MS常用到的質量分析器包括四級桿、 離子阱、飛行時間質譜、磁質譜等，此外，質譜聯用技術(ICP-MS-MS)也開始得到廣泛的應用。