許多汞 (Hg) 化合物有毒，會引起皮膚刺激、頭痛、震顫、神經系統損傷和腎衰竭等不適或中毒癥狀。由于汞化合物極易透過皮膚被人體吸收，因此化妝品中 Hg 化合物的使用受到嚴格控制。例如，除非在特殊條件下（找不到其它可替代的安全有效防腐劑），否則美國食品藥品監督管理局 (FDA) 不允許在化妝品里使用汞。

然而，Hg 化合物在護膚霜、肥皂和乳液中使用，可使其具有“抗衰老”或“美白”功效。某些不法商販看中了其中的商機，會在化妝品中非法添加 Hg 化合物，以求產品的“顯著”功效，從中獲利。

可使用 ICP-MS 測定低濃度的汞元素，但存在一定的困難。

汞具有較高的第一電離勢 (10.44 eV)，因此在等離子體中電離效果相對較差，從而導致靈敏度較低。此外，汞有七種天然存在的同位素，每一種同位素的豐度 (%) 都相對較低，這進一步降低了靈敏度。此外，一些化妝品中還含有大量鎢 (W)，這導致汞的所有同位素都受到 WO+ 和 WOH+ 的多原子干擾，使得汞的測定更加困難。配有碰撞反應池 (CRC) 的傳統單四極桿 ICP-MS 并不能充分去除 WO+ 和 WOH+干擾，無法對汞進行準確的痕量測定。

在研究中發現，串聯四極桿 ICP-MS (ICP-MS/MS) 在 MS/MS 模式、反應池氣體為 O₂ 下具有出色的干擾去除能力，可成功去除 WO+ 和 WOH+ 對五種主要汞同位素的多原子干擾，從而對汞進行原位質量檢測。

- 采用反應池氣體為 O₂ 的 MS/MS 原位質量方法，在鎢存在條件下的汞痕量測量準確一致；

- 與傳統的單四極桿 ICP-MS 相比，ICP-MS/MS 可將干擾降低至少兩個數量級；

- 8900 ICP-MS/MS 方法可輕易滿足富含鎢的化妝品樣品中對痕量汞分析的要求。